- Nachhaltig
Hochsprung-Evolution-Athleten-Silhouetten-Kunst auf Recycelte Patch Beanie
- Doppellagiger Strick
- Mit Baumwoll-Twill-Patch zum Veredeln
- Material: 100% Polyester (recycelt)
- Marke: Beechfield
| Größe |
|---|
| One size |
4.4 (5 Bewertungen)
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Eine tolle Mütze. Gute Qualität
Die Druckqualität ist nach erster Reklamation beim zweiten Exemplar ebenfalls schlecht , die Zahlen innen schwarz verschmiert, die Konturen der Zahlen nicht erkennbar. Entspricht nicht der Abbildung des Motivs. Bitte streichen Sie mich aus Ihrem Werbeverteiler.
Passt super, super Material
Ich bin zufrieden. Leider fusselt der Stoff schon nach kurzer Nutzung und wirft Fäden. Aber sonst ist der erste Eindruck bisher positiv.
Super Qualität
Erstellt von celybrate-uk
Hochsprung-Evolution-Athleten-Silhouetten-Kunst
Erstellt von celybrate-uk
Verfolgen Sie den Fortschritt der Größe! Diese saubere evolutionäre Silhouette zeigt den Weg vom primitiven Mann zum modernen Hochsprungathleten – perfekt für Leichtathletikfans und Wettkampfspringer.
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